纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计

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[美]Sandip；[印]AswinSreedhar；； | 科学出版社

ISBN:9787030400345

原价: ￥58.00

销售价:￥100.33元

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分类工业技术

作者 [美]Sandip；[印]AswinSreedhar；；

出版社科学出版社

图书简介

《纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计》的内容包括：CMOSVLSI电路设计的技术趋势；半导体制造技术；光刻技术；工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模；面向可制造性的物理设计技术；测量、制造缺陷和缺陷提取；缺陷影响的建模和合格率提高技术；物理设计和可靠性；DFM工具和DFM方法。

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